مقاله بررسی توان بسامد رادیوئی RF بر روی خواص فیزیکی لایه های نانوبلوری اکسید روی

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله بررسی توان بسامد رادیوئی RF بر روی خواص فیزیکی لایه های نانوبلوری اکسید روی دارای ۷ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بررسی توان بسامد رادیوئی RF بر روی خواص فیزیکی لایه های نانوبلوری اکسید روی  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی توان بسامد رادیوئی RF بر روی خواص فیزیکی لایه های نانوبلوری اکسید روی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله بررسی توان بسامد رادیوئی RF بر روی خواص فیزیکی لایه های نانوبلوری اکسید روی :

تعداد صفحات:۷

چکیده:

لایه های نازک اکسید روی بر روی زیر لایه های شیشه و سیلیکون (۱۰۰) با روش کند و پاش RF لایه نشانی شده است.لایه نشانی در حضور پلاسمای گاز آرگون با خلوص (۹۹/۹۹%) و بدون گرمادهی زیر لایه ها با تغییر توان RF از ۵۰ تا ۳۵۰ وات انجام شده و تاثیر توان لایه نشانی روی ساختار سطحی، کیفیت بلوری، خواص نوری و تنش این لایه ها بررسی شده است. آنالیز پراش اشعه (XRD)x بر روی نمونه های لایه نشنی شده با توان RF کمتر از ۲۰۰ وات ساختار بلوری و جهت غالب (۰۰۲) را نشان میدهد . البته توان ۱۵۰ وات به دلیل داشتن پیک با شدت زیاد در جهت (۰۰۲) از کیفیت بالای بلوری برخوردار است. نتایج آنالیز پراش اشعه x مربوط به توان ۱۵۰ وات را نشان می دهد که دارای کمترین مقدار نصف عرض پیک (FWHM) یعنی ۰/۴۳ درجه سانتی گراد می باشد. آنالیز میکروسکوپ الکترونی (SEM) انجام شده از نمونه ها حاکی از آن است که اندازه دانه های رشد داده شده با توان ۱۵۰ وات درمقایسه با بقیه بزرگترین مقدار است. همچنین یکنواختی و چگال بودن لایه را نیز به طور واضح نشان می دهد. آنالیز طیف نگاری نیز نشان می دهد که لایه اکسید روی با توان ۱۵۰ وات درصد عبور بالای یه طور میانگین ۸۵% در محدوده نور مرئی را دارا می باشد. همچنین انرژی باند ممنوعه این لایه ها از ۳۲۵ev تا ۳۳۱ev بسته به توان لایه نشانی تغییر می کند.