مقاله ویژگی های نانوساختار نقره/اکسید سیلیکون

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله ویژگی های نانوساختار نقره/اکسید سیلیکون دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله ویژگی های نانوساختار نقره/اکسید سیلیکون  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله ویژگی های نانوساختار نقره/اکسید سیلیکون،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله ویژگی های نانوساختار نقره/اکسید سیلیکون :

مقاله ویژگی های نانوساختار نقره/اکسید سیلیکون که چکیده‌ی آن در زیر آورده شده است، در ۱۳۸۸ در علوم و مهندسی سطح از صفحه ۴۱ تا ۴۷ منتشر شده است.
نام: ویژگی های نانوساختار نقره/اکسید سیلیکون
این مقاله دارای ۷ صفحه می‌باشد، که برای تهیه‌ی آن می‌توانید بر روی گزینه‌ی خرید مقاله کلیک کنید.
کلمات مرتبط / کلیدی:
مقاله فیلم نازک
مقاله اکسید سیلیکون
مقاله فیلم نقره
مقاله تابش سینکروترونی

چکیده و خلاصه‌ای از مقاله:
ترانزیستورهای اثر میدانی یکی از مهم ترین قسمت های مدارهای مجتمع می باشند. در ساختار این نوع ترانزیستورها، الکترود فلزی بر روی لایه ای از اکسید سیلیکون قرار گرفته است و زیر لایه نیز از جنس سیلیکون اختیار شده است. ما عنصر نقره را به عنوان الکترود اختیار نمودیم و با استفاده از طیف های گرفته شده از تکنیک تابش های سینکروترونی که تکنیک حساس به سطح است تلاش کردیم تا ببینیم که آیا می توان ازنانوساختار نقره در تماس با فیلم اکسید بدین منظور استفاده کرد یا نه. علاوه بر آن تاثیر میدان های الکتریکی عبوری از آن را نیز بررسی کردیم. تغییرات موضعی در Ag/SiO_۲/Si نشان می دهد که فیلم تشکیل دهنده بر زیر لایه ی سیلیکونی تمام سطح آن را پوشش می دهد به طوری که شاهد فیلم یکنواختی هستیم و هم چنین میدان ضعیف الکتریکی در فیلم های نازک تراکسید (کمتر از (۲^nm نسبت به فیلم ضخیم تر از آن به دست آمده است.