تهیه لایه نازک روی اکسید نانو ساختار بر روی بستر شیشه ای به روش سل – ژل با استفاده از تکنیک های پوشش دهی غوطه ور سازی و چرخشی
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
تهیه لایه نازک روی اکسید نانو ساختار بر روی بستر شیشه ای به روش سل – ژل با استفاده از تکنیک های پوشش دهی غوطه ور سازی و چرخشی دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد تهیه لایه نازک روی اکسید نانو ساختار بر روی بستر شیشه ای به روش سل – ژل با استفاده از تکنیک های پوشش دهی غوطه ور سازی و چرخشی کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی تهیه لایه نازک روی اکسید نانو ساختار بر روی بستر شیشه ای به روش سل – ژل با استفاده از تکنیک های پوشش دهی غوطه ور سازی و چرخشی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن تهیه لایه نازک روی اکسید نانو ساختار بر روی بستر شیشه ای به روش سل – ژل با استفاده از تکنیک های پوشش دهی غوطه ور سازی و چرخشی :
تعداد صفحات :۸
چکیده مقاله:
در این مقاله، روش نشاندن فیلم های نازک روی اکسید نانو ساختار روی بستر شیشه ای با روش سل – ژل بررسی شده است. فیلم های نازک نانو ساختاری روی اکسید با جهت یابی شناخته شده ی (۰۰۲) بوسیله تکنیک های پوشش دهی غوطه ور سازی (Dip Coating) و چرخشی (Spin Coating) تهیه شدند. فیلم های تهیه شده شفافیت در حدود ۸۵-۹۰% و باند جذبی ۳۷۵ نانومتر نشان دادند. پراش اشعه ایکس ساختار ورتزیت (Wurtzite) پلی کریستایت با جهت یابی ترجیهی (۰۰۲) در پیک ۳۴/۴ که مطابق با ساختار هگزاگونال ZnO هست را نشان داد. این فیلم ها پتانسیل کاربرد به عنوان فوتوکاتالیست و الکترودهای شفاف درصنایع اپتیک و الکترونیک را دارا هستند.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.