مقاله ارزیابی ضخامت فوتوالکترود سلول خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ و ساخت ماژول خورشیدی با استفاده از ضخامت بهینه

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله ارزیابی ضخامت فوتوالکترود سلول خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ و ساخت ماژول خورشیدی با استفاده از ضخامت بهینه دارای ۶ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله ارزیابی ضخامت فوتوالکترود سلول خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ و ساخت ماژول خورشیدی با استفاده از ضخامت بهینه  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله ارزیابی ضخامت فوتوالکترود سلول خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ و ساخت ماژول خورشیدی با استفاده از ضخامت بهینه،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله ارزیابی ضخامت فوتوالکترود سلول خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ و ساخت ماژول خورشیدی با استفاده از ضخامت بهینه :

تعداد صفحات:۶
چکیده:
سلولهای خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ از طریق اعمال ضخامتهای متفاوتی از لایه نازک ۲ TiO در فوتوالکترود (الکترود آند) ساخته شدند و میزان ضخامت این لایه با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) مورد بررسی قرار گرفت. کارایی سلول های خورشیدی ساخته شده به وسیله بدست آوردن منحنی های مشخصه ولتاژ- دانسیته جریان با استفاده از دستگاه شبیه ساز خورشیدی مورد ارزیابی قرار گرفت. پارامترهای دانسیته جریان مدار کوتاه (Jsc) ، ولتاژ مدار باز (Voc) ، فاکتور پرکنندگی (FF) و بازدهی تبدیل () سلول های خورشیدی ساخته شده مورد مقایسه قرار گرفتند و میزان بهینه ضخامت لایه فوتوالکترود آند تعیین گردید. یک نمونه ماژول خورشیدی حاوی ۸ سلول سری از نوع Z با اعمال ضخامت بهینه لایه نیمه هادی TiO2 به دست آمده ساخته شد.