دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور مقاله تعیین ضخامت لایه ی نازک SiO2 با استفاده از طیف بازتابی در بازه ی انرژِی۵-۱?۵
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
مقاله تعیین ضخامت لایه ی نازک SiO2 با استفاده از طیف بازتابی در بازه ی انرژِی۵-۱?۵ دارای ۶ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله تعیین ضخامت لایه ی نازک SiO2 با استفاده از طیف بازتابی در بازه ی انرژِی۵-۱?۵ کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله تعیین ضخامت لایه ی نازک SiO2 با استفاده از طیف بازتابی در بازه ی انرژِی۵-۱?۵،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله تعیین ضخامت لایه ی نازک SiO2 با استفاده از طیف بازتابی در بازه ی انرژِی۵-۱?۵ :
تعداد صفحات:۶
چکیده:
با استفاده از طیف بازتاب نور در ناحیه ی انرژیeV 5-1.5،ضخامت لایه ی نازک SiO2 که به روش اکسیداسیون گرمایی روی زیرلایه های سیلیکان نوع P با جهت (۱۰۰) صیقلی و غیر صیقلی نشانده شده، برآورد و در این مقاله گزارش شده است. روش اندازه گیری بر اساس مقایسه طیف بازتاب تجربی لایه مورد نظر و طیف بازتاب نظری همان لایه ناشی ازتداخل چندپرتویی در انرژی های مختلف انجام شده است. مقایسه طیف تجربی و نظری نشان می دهد که توافق بسیارخوبی بین نتایج نظری و تجربی در انرژی هایی که طیف بازتاب بیشینه و یا کمینه است وجود دارد. همچنین طیف FTIR تهیه شده از نمونه های لایه نازک، تشکیل لایه SiO2 به روش اکسیداسیون گرمایی را تأیید می کند.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
