مقاله رشد نانو ساختارهای اکسید روی آلایش یافته با فلوئور: بررسی اثر زمان ماندگی محلول اولیه بر روی آن

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله رشد نانو ساختارهای اکسید روی آلایش یافته با فلوئور: بررسی اثر زمان ماندگی محلول اولیه بر روی آن دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله رشد نانو ساختارهای اکسید روی آلایش یافته با فلوئور: بررسی اثر زمان ماندگی محلول اولیه بر روی آن  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله رشد نانو ساختارهای اکسید روی آلایش یافته با فلوئور: بررسی اثر زمان ماندگی محلول اولیه بر روی آن،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله رشد نانو ساختارهای اکسید روی آلایش یافته با فلوئور: بررسی اثر زمان ماندگی محلول اولیه بر روی آن :

تعداد صفحات:۸

چکیده:

لایه اکسید روی به دلیل داشتن خواص منحصر به فرد از جمله رسانایی الکتریکی و شفافیت اپتیکی بالا به عنوان الکترودهای رسانای شفاف در ابزارهای فوتوالکتریک مانند سلول های خورشیدی، نمایشگرهای صفحه تخت، سنسورها و تراتزیستورهای لایه نازک و غیره مورد استفاده قرار می گیرد. نانو ساختارهای ZnO بدلیل کارایی متفاوتشان در الکترونیک، اپتیک و فوتونیک توجه زیادی را به خود جلب کرده است.