مقاله ساخت موجبر در کریستالهای فوتونیکی سیلیکونی با ترکیب روشهای لیتوگرافی تداخلی، لیتوگرافی با ماسک و لایه برداری شیمیایی

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله ساخت موجبر در کریستالهای فوتونیکی سیلیکونی با ترکیب روشهای لیتوگرافی تداخلی، لیتوگرافی با ماسک و لایه برداری شیمیایی دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله ساخت موجبر در کریستالهای فوتونیکی سیلیکونی با ترکیب روشهای لیتوگرافی تداخلی، لیتوگرافی با ماسک و لایه برداری شیمیایی  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله ساخت موجبر در کریستالهای فوتونیکی سیلیکونی با ترکیب روشهای لیتوگرافی تداخلی، لیتوگرافی با ماسک و لایه برداری شیمیایی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله ساخت موجبر در کریستالهای فوتونیکی سیلیکونی با ترکیب روشهای لیتوگرافی تداخلی، لیتوگرافی با ماسک و لایه برداری شیمیایی :

تعداد صفحات:۵

چکیده:

در این مقاله یک روش ساده برای ایجاد موجبر در کریستالهای فوتونیکی سیلیکونی ساخته شده با روش لیتوگرافی تداخلی معرفی می شود. دراین روش ابتدا الگوی کیستال فوتونیکی با روش لیتوگرافی تداخلی در یک لایه کروم ایجاد و سپس با روش لیتوگرافی نوری با ماسک، طرح موجبر به لایه کروم اضافه می شود. سپس با استفاده از روش لایه برداری شیمیایی طرح موجبر و کریستال در لایه سیلیکون ایجاد می شوند.