مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب :

تعداد صفحات:۵

چکیده:

با استفاده از فرآیند Sol-Gel و با روش لایه نشانی غوطه وری، پوشش های ضد بازتاب SiO2 بر روی بستر لام میکروسکوپ تهی بررسی UV-Vis شدند . سپس اثر عوامل سرعت کشش، دمای عملیات حرارتی و مدت زمان پیرشدگی بر روی طیف عبوری نمونه های تهیه شده، در محدوده شد . افزایش سرعت کشش و نیز افزایش دمای عملیات حرارتی، موجب کاهش میزان عبور نور شد . زمان پیرشدگی سل، اثر قابل توجهی بر روی میزان عبور نداشت که حاکی از پایداری محلول سل می باشد . برای بررسی ساختار سطحی لایه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی از سطح نمونه ها تصویرSEM تهره شد.