مقاله بررسی و بهینه سازی لایه های نازک نیترید سیلیکون به عنوان پوشش ضدبازتاب سلولهای خورشیدی مولتی کریستال سیلیکون با شیوه کندوپاش RF

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله بررسی و بهینه سازی لایه های نازک نیترید سیلیکون به عنوان پوشش ضدبازتاب سلولهای خورشیدی مولتی کریستال سیلیکون با شیوه کندوپاش RF دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بررسی و بهینه سازی لایه های نازک نیترید سیلیکون به عنوان پوشش ضدبازتاب سلولهای خورشیدی مولتی کریستال سیلیکون با شیوه کندوپاش RF  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی و بهینه سازی لایه های نازک نیترید سیلیکون به عنوان پوشش ضدبازتاب سلولهای خورشیدی مولتی کریستال سیلیکون با شیوه کندوپاش RF،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله بررسی و بهینه سازی لایه های نازک نیترید سیلیکون به عنوان پوشش ضدبازتاب سلولهای خورشیدی مولتی کریستال سیلیکون با شیوه کندوپاش RF :

تعداد صفحات:۵

چکیده:

لایههای نازک نیترید سیلیکون بر روی زیرلایههای مولتی کریستال سیلیکون با استفاده از سیستم کندوپاش RF لایه نشانی شدهاند . لایه نشانی در محیط گاز آرگن و نیتروژن انجام شده و با تغییر توان لایه نشانی سعی شده است پوشش ضدبازتاب مناسبی برای سلولهای خورشیدی مبتنی برمولتی کریستال سیلیکون حاصل گردد . با تغییر توان لایه نشانی نسبت نیتروژن و سیلیکون موجود در لایه تغییر کرده و لایههایی با خواص نوری متفاوت بدست میآید . نسبت سیلیکون به نیتروژن در ترکیب پوششهای ضدبازتاب نیترید سیلیکون بهینه شده به کمک آنالیز RBS بررسی شده است . از آنالیزFTIRبرای بررسی خواص نوری این لایهها استفاده شده است . لایههای نیترید سیلیکونی که در محیط آرگن و با توان بین-۱۵۰۱۰۰ وات لایه نشانی شدهاند، درصد عبور نوری بسیار بالایی ) %۹۲ در حدود شفافیت شیشههای نازک ) در طیف وسیع ۳۰۰-۱۲۰۰ nm دارا می – باشند . لایههای ضدبازتاب نیترید سیلیکون مذکور بازتاب سطح سلولهای مولتی کریستال سیلیکون را از %۱۲ به کمتر از %۲ کاهش میدهند