مقاله جوانه‌زنی و رشد الکتروشیمیایی مس روی پایه مولیبدن: اثر pH، پتانسیل و روش تمیز کردن سطح


در حال بارگذاری
23 اکتبر 2022
فایل ورد و پاورپوینت
2120
11 بازدید
۷۹,۷۰۰ تومان
خرید

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 مقاله جوانه‌زنی و رشد الکتروشیمیایی مس روی پایه مولیبدن: اثر pH، پتانسیل و روش تمیز کردن سطح دارای ۲۴ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله جوانه‌زنی و رشد الکتروشیمیایی مس روی پایه مولیبدن: اثر pH، پتانسیل و روش تمیز کردن سطح  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله جوانه‌زنی و رشد الکتروشیمیایی مس روی پایه مولیبدن: اثر pH، پتانسیل و روش تمیز کردن سطح،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد


بخشی از متن مقاله جوانه‌زنی و رشد الکتروشیمیایی مس روی پایه مولیبدن: اثر pH، پتانسیل و روش تمیز کردن سطح :

تعداد صفحات :۲۴

در این تحقیق با استفاده از تکنیک­های ولتامتری سیکلی[۱] و کرونوآمپرومتری[۲] مراحل اولیه رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس روی فلز پایه مولیبدن در محلول اندکی اسیدی مطالعه شده است. رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس بر روی فلز پایه مولیبدن از دیدگاه ترمودینامیکی، سینتیکی، مکانیزم جوانه­زنی و رشد مورد ارزیابی قرار گرفت. با استفاده از ولتامتری سیکلی تعیین شد که رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس روی فلز پایه مولیبدن یک فرایند برگشت­ناپذیر و تحت کنترل نفوذ می­باشد. تحت کنترل نفوذ بودن رسوب­دهی الکتروشیمیایی مس بر روی فلز پایه مولیبدن توسط رابطه­ی Randles-Sevcik تایید گردید. ضریب نفوذ مس در ۳ pH= و ۴ با استفاده از رابطه­ی Randles-Sevcik و رابطه­ی Cottrel محاسبه شدند که در تطابق خوبی با هم بودند. با استفاده از مدل Sharifker-Hills منحنی­های جریان گذرا[۳]مس تحلیل شدند. مکانیزم جوانه­زنی مس به عنوان تابعی از pH و پتانسیل مورد بررسی قرار گرفتند. در۳ pH= و ۴ مکانیزم جوانه­زنی و رشد مس روی نمونه­ سمباده شده به‌صورت ترکیبی از آنی[۴] و پیشرونده[۵] سه بعدی بود درحالی‌که با افزایش pH و پتانسیل مکانیزم جوانه­زنی به سمت مکانیزم آنی سه بعدی متمایل شد. غوطه‌ور کردن فلز پایه در محلول حاوی آمونیاک و سپس اسید کلریدریک بعد از سمباده زدن تاثیری بر روی مکانیزم جوانه­زنی و رشد نداشت. اچ کردن فلز پایه در محلول حاوی اسید سولفوریک، اسید نیتریک و اسید کلریدریک بعد از سمباده زدن مکانیزم جوانه­زنی را از حالت آنی سه بعدی به پیشرونده سه بعدی تغییر داد. [۱] -Cyclic voltammetry [2] -Chronoamperometry [3] -current transient [4]- instantaneous [5]- progressive

  راهنمای خرید:
  • در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.