تاثیر پارامترهای هندسی آرایه نانو میله های اکسید روی بر رفتار بازتابی لایه ضدبازتاب سلول خورشیدی CuIn1-xGaxSe2

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 تاثیر پارامترهای هندسی آرایه نانو میله های اکسید روی بر رفتار بازتابی لایه ضدبازتاب سلول خورشیدی CuIn1-xGaxSe2 دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد تاثیر پارامترهای هندسی آرایه نانو میله های اکسید روی بر رفتار بازتابی لایه ضدبازتاب سلول خورشیدی CuIn1-xGaxSe2  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی تاثیر پارامترهای هندسی آرایه نانو میله های اکسید روی بر رفتار بازتابی لایه ضدبازتاب سلول خورشیدی CuIn1-xGaxSe2،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن تاثیر پارامترهای هندسی آرایه نانو میله های اکسید روی بر رفتار بازتابی لایه ضدبازتاب سلول خورشیدی CuIn1-xGaxSe2 :

تعداد صفحات :۵

چکیده مقاله:

در این تحقیق اثر ارتفاع ، قطر و داسیته سطحی آرایه نانو میله اکسید روی بر رفتار بازتابی پوشش بیرونی سلول خورشیدی کالکوپیریدی Cu(In1-xGax)Se2 مورد بررسی قرار گرفته است. برای شبیه سازی رفتار بازتابی آرایه نانو میله های اکسید روی از نرم افزار لومریکال ۲۰۱۵ استفاده شده است. و درصد بازتاب بر اساس روش بازتاب نیم کره ای محاسبه شده است. نتایج شبیه سازی نشان می دهد تغییر دانسیته سطحی آرایه نانو میله تاثیر چشمگیری بر روی درصد بازتاب ندارد، ولی تغییرات قطر نانو میله سبب تغییراتی در درصد بازتاب می شود. نتایج نشان داد که ارتفاع نانو میله تاثیر چشمگیری بر روی کاهش درصد بازتاب و یکنواختی آن در زوایای مختلف تابش فرودی دارد. در آرایه نانو میله اکسید روی با ارتفاع ۲۲۰ نانومتر، قطر ۵۰ نانو متر و دانسیته سطحی ۶۲ درصد آرایه میزان ضریب بازتاب از حدود ۱۳ درصد به مقدار حدود ۴ درصد کاهش یافته و در زوایای مختلف تابش فرودی تقریبا ثابت باقی می ماند.