ترانزیستور اثر میدان فلز- نیمه هادی در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق با استفاده از یک تکه اکسید اضافی در کانال برای کاربردهای توان و فرکانس بالا


در حال بارگذاری
23 اکتبر 2022
فایل ورد و پاورپوینت
2120
5 بازدید
۷۹,۷۰۰ تومان
خرید

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 ترانزیستور اثر میدان فلز- نیمه هادی در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق با استفاده از یک تکه اکسید اضافی در کانال برای کاربردهای توان و فرکانس بالا دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد ترانزیستور اثر میدان فلز- نیمه هادی در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق با استفاده از یک تکه اکسید اضافی در کانال برای کاربردهای توان و فرکانس بالا  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی ترانزیستور اثر میدان فلز- نیمه هادی در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق با استفاده از یک تکه اکسید اضافی در کانال برای کاربردهای توان و فرکانس بالا،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد


بخشی از متن ترانزیستور اثر میدان فلز- نیمه هادی در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق با استفاده از یک تکه اکسید اضافی در کانال برای کاربردهای توان و فرکانس بالا :

نام کنفرانس، همایش یا نشریه : مهندسی برق (دانشکده فنی دانشگاه تبریز)

تعداد صفحات :۸

در این مقاله یک ساختار جدید از ترانزیستور اثر میدانی فلز نیمه هادی در تکنولوژی SOIمعرفی می شود که مشخصات DCو فرکانسی بهتری نسبت به ساختارهای متداول دارد. ایده اصلی مقاله بر مبنی تغییر چگالی حامل ها توسط یک تکه اکسید اضافی چسبیده به لایه مدفون اکسید در سمت درین است. بهبود عملکرد قطعه توسط شبیه ساز دوبعدی بررسی می شود. در ساختار پیشنهادی ولتاژ شکست از ۱۳V در ساختار متداول به ۱۹V در ساختار جدید افزایش یافته و بهبودی حدود %۴۷ داشته است لذا توان ماکزیمم ساختار از ۰.۱۹ W/mm به ۰.۲۵ W/mm بهبود یافته است. همچنین به دلیل کاهش خازن گیت- درین و خازن گیت- سورس مشخصه های فرکانسی از جمله فرکانس قطع و ماکزیمم فرکانس نوسان و نویز بهبود یافته است. نتایج نشان می دهد که ساختار پیشنهادی مشخصه های توان و فرکانسی بهتری نسبت به ساختار متداول ترانزیستورهای اثر میدانی فلز- نیمه هادی در تکنولوژی SOI را دارا است.

کلید واژه: ترانزیستور اثر میدانی فلز- نیمه هادی، سیلیسیم روی عایق، ناحیه اکسید اضافی، ماکزیمم توان خروجی، مشخصات فرکانسی

  راهنمای خرید:
  • در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.