بررسی تاثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک ZnO

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 بررسی تاثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک ZnO دارای ۱۰ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد بررسی تاثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک ZnO  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی بررسی تاثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک ZnO،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن بررسی تاثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک ZnO :

نام کنفرانس، همایش یا نشریه : پژوهش فیزیک ایران

تعداد صفحات :۱۰

در این مقاله لایه نازک ZnO به روش سل ژل بر روی زیرلایه شیشه ساخته شده است. لایه های اولیه ابتدا در دمای ۳۰۰، ۴۰۰ و ۵۰۰oC خشک و سپس در دماهای ۳۰۰، ۴۰۰ و ۵۰۰oC پخت شده اند. اندازه گیری مقاومت دو نقطه ای نشان می دهد که مقاومت الکتریکی لایه های آماده شده، بسیار زیاد است. تابش پرتو لیزر اگزایمر (l=248 nm) KrF با تعداد پالس ۱۰۰۰، فرکانس ۱ Hz و انرژی ۹۰ mJ/cm2 بر سطح لایه باعث کاهش مقاومت الکتریکی لایه می شود. طیف پراش پرتو ایکس (XRD) بهبود ساختار هگزاگونال ورتسایت لایه را تایید می کند، و آنالیز AFM و FE-SEM شکل گیری منظم و دایروی دانه ها بر سطح لایه را نشان داد. اندازه ذرات بعد از تابش لیزر از ~۱۰ nm به ~۳۰ nm افزایش پیدا می کند. به طور کلی، نشان داده شده است که، ویژگی های ساختاری، الکتریکی و مورفولوژی لایه ها با تابش لیزر به طور قابل ملاحظه ای بهبود می یابد.

کلید واژه: لایه های نازک ZnO، اکسید رسانای شفاف، لیزر پالسی، XRD ،AFM