الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها دارای ۱۲ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن الکتروانباشت فیلم های بس لایه ای Co-Cu/Cu و بررسی اثر پارامترهای رشد بر ساختار آن ها :

نام کنفرانس، همایش یا نشریه : علوم و مهندسی سطح

تعداد صفحات :۱۲

در این تحقیق فیلم های بس لایه ای فلزی Co-Cu/Cu با زوج لایه های نانومتری و با استفاده از روش الکتروانباشت در محلولی حاوی سولفات مس و سولفات کبالت بر زیرلایه بس بلور Ti با بافت های قوی (۱۰۱) و (۱۰۳) و (۰۰۱) با مقادیر مختلف پارامترهای رشد مانند ولتاژ انباشت، ضخامت کل و دمای الکترولیت تهیه شدند. سپس نانو ساختار فیلم های تهیه شده توسط دستگاه پراش پرتویX و ریخت شناسی آن ها توسط میکروسکپ الکترونی روبشی مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج پراش X نمونه ها نشان داد که بس لایه ها دارای ساختار fcc با بافت قوی (۱۱۱) می باشند. تصاویر SEM نمایانگر رشد ستونی Cu در نمونه ها است. همچنین در بس لایه هایی که تحت ولتاژ انباشتCo منفی تری رشد نموده اند، اندازه دانه ها و ارتفاع ستون های Cu کاهش می یابد. با ازدیاد ضخامت کل اثر نا هماهنگی شبکه ای بین لابه و زیر لایه کمتر مشاهده گردید. در نتیجه با افزایش دمای الکترولیت اندازه دانه های سطحی بس لایه های تولید شده و هم چنین میزان ناخالصی اتم های S در این بس لایه ها افزایش نسبی دارند.

کلید واژه: الکتروانباشت، بس لایه Co-Cu/Cu، پارامترهای رشد، نانوساختار