تهیه پوشش های لایه نازک نانوذرات آناتاز به روش سل ـ ژل در دمای پایین و بررسی اثر فوتوکاتالیستی آنها

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 تهیه پوشش های لایه نازک نانوذرات آناتاز به روش سل ـ ژل در دمای پایین و بررسی اثر فوتوکاتالیستی آنها دارای ۱۲ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد تهیه پوشش های لایه نازک نانوذرات آناتاز به روش سل ـ ژل در دمای پایین و بررسی اثر فوتوکاتالیستی آنها  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی تهیه پوشش های لایه نازک نانوذرات آناتاز به روش سل ـ ژل در دمای پایین و بررسی اثر فوتوکاتالیستی آنها،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن تهیه پوشش های لایه نازک نانوذرات آناتاز به روش سل ـ ژل در دمای پایین و بررسی اثر فوتوکاتالیستی آنها :

نام کنفرانس، همایش یا نشریه : علوم و فناوری رنگ

تعداد صفحات :۱۲

در این تحقیق، محلول سل حاوی نانوذرات دی اکسید تیتانیم آناتاز در شرایط ملایم (دمای ۸۰oC و فشار محیط) با آبکافت تیتانیم نرمال-بوتوکسید درمحیط اسیدی و تقطیر بازگشتی محلول تهیه شد. سپس محلول سل حاوی این نانوذرات متبلور شده بر روی بسترهای شیشه ای به روش پوشش دهی چرخشی در شرایط محیطی اعمال شد. ساختار بلوری، اندازه ذرات و ریخت شناسی سطح بسترهای پوشش داده شده با آزمون های پراش اشعه ایکس، میکروسکوپ الکترونی عبوری TEM)) و میکروسکوپ الکترونی پویشی (SEM) بررسی شدند. نتایج نشان داد نانوذرات حاصل دارای ساختار بلوری آناتاز با متوسط اندازه ذره ۴۰-۳۰ نانومتر بوده و به طوریکنواخت درسطح توزیع شده اند. اثر فوتوکاتالیستی پوشش های تهیه شده با تجزیه متیلن بلو مورد بررسی قرار گرفت و نتایج با پوشش تهیه شده از نمونه سل تجاری و همچنین نمونه عملیات حرارتی شده در ۶۵۰oC مقایسه شد.

کلید واژه: پوشش، نانوذرات آناتاز، سل ـ ژل، تیتانیم دی اکسید، فوتوکاتالیز