دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور رشد نانولوله های کربنی به روش پوشش دهی شیمیایی- حرارتی در فاز بخار (TCVD) در فشار اتمسفر
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
رشد نانولوله های کربنی به روش پوشش دهی شیمیایی- حرارتی در فاز بخار (TCVD) در فشار اتمسفر دارای ۱۰ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد رشد نانولوله های کربنی به روش پوشش دهی شیمیایی- حرارتی در فاز بخار (TCVD) در فشار اتمسفر کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی رشد نانولوله های کربنی به روش پوشش دهی شیمیایی- حرارتی در فاز بخار (TCVD) در فشار اتمسفر،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن رشد نانولوله های کربنی به روش پوشش دهی شیمیایی- حرارتی در فاز بخار (TCVD) در فشار اتمسفر :
نام کنفرانس، همایش یا نشریه : مجله علوم و فنون هسته ای
تعداد صفحات :۱۰
نانولوله های کربنی با استفاده از اثر کاتالیست نیکل بر سیلیسیوم، به روش پوشش دهی با بخار شیمیایی – حرارتی با استفاده از گاز متان در فشار اتمسفر سنتز شده اند. لایه نیکل به روش کندوپاش یونی بر روی نمونه سیلیسیومی نشانده شده است. در این کار پژوهشی اثر سطح اکسید سیلیسیوم بر توده سازی و شکل گیری ذرات مجرد نیکل با استفاده از میکروسکوپ الکترونی و طیف سنجی رامان مطالعه شده است. نقش لایه اکسید سیلیسیوم بر روی سیلیسیوم در تشکیل ذرات مجرد نیکل و در نتیجه رشد نانولوله های کربنی به کمک میکروسکوپ الکترونی مشاهده شده است. طیف نگاری رامان نیز ساختار گرافیتی نانولوله های کربنی را مشخص کرده است.
کلید واژه: نانولوله های کربنی، کاتالیست، کندوپاش باریکه یونی، طیف نگاری رامان
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
