دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور طراحی تقویت کننده دو طبقه با جبران سازی میلر فعال در تکنولوژی ۰.۱۸ میکرومتر با به کارگیری تکنیک DTMOS
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
طراحی تقویت کننده دو طبقه با جبران سازی میلر فعال در تکنولوژی ۰.۱۸ میکرومتر با به کارگیری تکنیک DTMOS دارای ۴ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد طراحی تقویت کننده دو طبقه با جبران سازی میلر فعال در تکنولوژی ۰.۱۸ میکرومتر با به کارگیری تکنیک DTMOS کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی طراحی تقویت کننده دو طبقه با جبران سازی میلر فعال در تکنولوژی ۰.۱۸ میکرومتر با به کارگیری تکنیک DTMOS،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن طراحی تقویت کننده دو طبقه با جبران سازی میلر فعال در تکنولوژی ۰.۱۸ میکرومتر با به کارگیری تکنیک DTMOS :
تعداد صفحات :۴
چکیده مقاله:
در این مقاله به کمک تکنیک DTMOS تقویت کننده دو طبقه ای با جبران ساز میلر فعال در تکنولوژی ۰.۱۸ میکرومتر و ولتاژ تغذیه ۱۸ ولت طراحی شده است، که نسبت به تقویت کننده دو طبقه مشابه با جبران سازی میلر فعال در تکنولوژی ۰.۶ میکرومتر و ولتاژ تغذیه ۳ ولت توانسته است فرکانس بهره واحد را ۳.۵ برابر افزایش دهد و تنها با افزایش ۳۹ درصدی توان اتلافی، میزان ضریب شایستگی را تا ۲.۵ برابر بهبود ببخشد.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
