سنتز و بررسی لایه های نازک جهت ثبت تمام نگاری

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 سنتز و بررسی لایه های نازک جهت ثبت تمام نگاری دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد سنتز و بررسی لایه های نازک جهت ثبت تمام نگاری  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی سنتز و بررسی لایه های نازک جهت ثبت تمام نگاری،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن سنتز و بررسی لایه های نازک جهت ثبت تمام نگاری :

تعداد صفحات :۵

چکیده مقاله:

محیط های ثبت تصاویر تمام نگاری می توانند هالیدهای نقره یا محیط نور شکست مانند بیسموت سیلیکات اکساید و بیسموت ژرمانات باشند. اما امروزه استفاده ذرات اکسید فلزی در ماتریس پلیمری نیز بسیار مورد توجه قرار گرفته است. در این پژوهش سعی شده است از اکسید روی ZnO در ماتریس پلیمری PVA برای ثبت تمام نگاری استفاده شود. لایه ای از این مخلوط به روش اسپین بر بستر شیشه ای نشانده شده است. مشخصات جذب و نشر محیط با استفاده از طیف سنجی ماورای بنفش UV-Vis و FTIR از نمونه ها مطالعه گردیده است. همچنین طیف نگاری اشعه ایکس XRD و اسکن میکروسکوپ الکترونی STM و AFM از نمونه تهیه گرید.مقایسه جداول و نمودارهای طیف سنجی UV نشان داد که در طول موج های ۳۴۲۰cm -1 و ۲۹۲۱cm-1 و ۱۳۸۴cm-1 و ۱۰۶۰cm -1 جذب وجود دارد. همچنین تصاویر STM و AFM نمونه نشان داد اندازه نانو ذرات حدود ۳۵nm می باشد و طیف نگاری XRD نشان داد که ذرات موجود در پلیمر همان نانو دذرات اکسید روی می باشند. انرژی جذب شده می تواند خواص فیزیکی لایه پلیمر مانند ضریب شکست و یا فوتور فرکتوری را تغییر داده و موجب ثبت تصویر شود.