دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور روشی مناسب برای فرایند نازک سازی و صیقلدهی ایندیم آنتیموناید با حداقل ناهمواری سطحی
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
روشی مناسب برای فرایند نازک سازی و صیقلدهی ایندیم آنتیموناید با حداقل ناهمواری سطحی دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد روشی مناسب برای فرایند نازک سازی و صیقلدهی ایندیم آنتیموناید با حداقل ناهمواری سطحی کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی روشی مناسب برای فرایند نازک سازی و صیقلدهی ایندیم آنتیموناید با حداقل ناهمواری سطحی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن روشی مناسب برای فرایند نازک سازی و صیقلدهی ایندیم آنتیموناید با حداقل ناهمواری سطحی :
تعداد صفحات :۵
چکیده مقاله:
روشی مناسب برای نازکسازی و صیقلدهی نهایی ایندیم آنتیموناید با استفاده از محلول آلومینیم اکسید ارائه شده است. محلول با ساینده ۱ میکرون با خاصیت عاری از انباشتگی از نظر نرخ حذف قابل مقایسه با محلول های معمولی باذرات بزرگتر از ده میکرون است ک برای نازک کاری نیم هادیها مورد استفاده قرار میگیرد.سطحی با حداقل آسیب سطحی و با ناهمواری خیلی کم با استفاده از این محلول و پد نرم حاصل میشود. نتایج آنالیز سطحی با استفاده از AFM نشان داده شده است.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
