مطالعه نقش۴ – فنیل۳ – تیوسمی کربازید در بازدارندگی خوردگی استیل ۳۱۶L درمحیط اسیدسولفوریک۵ / ۰مولار و ۱۰درصد حجمی متانل ازطریق روش امپدانس الکتروشیمیائی ومنحنی های پلاریزاسیون

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 مطالعه نقش۴ – فنیل۳ – تیوسمی کربازید در بازدارندگی خوردگی استیل ۳۱۶L درمحیط اسیدسولفوریک۵ / ۰مولار و ۱۰درصد حجمی متانل ازطریق روش امپدانس الکتروشیمیائی ومنحنی های
پلاریزاسیون دارای ۲۰ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مطالعه نقش۴ – فنیل۳ – تیوسمی کربازید در بازدارندگی خوردگی استیل ۳۱۶L درمحیط اسیدسولفوریک۵ / ۰مولار و ۱۰درصد حجمی متانل ازطریق روش امپدانس الکتروشیمیائی ومنحنی های
پلاریزاسیون  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مطالعه نقش۴ – فنیل۳ – تیوسمی کربازید در بازدارندگی خوردگی استیل ۳۱۶L درمحیط اسیدسولفوریک۵ / ۰مولار و ۱۰درصد حجمی متانل ازطریق روش امپدانس الکتروشیمیائی ومنحنی های
پلاریزاسیون،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مطالعه نقش۴ – فنیل۳ – تیوسمی کربازید در بازدارندگی خوردگی استیل ۳۱۶L درمحیط اسیدسولفوریک۵ / ۰مولار و ۱۰درصد حجمی متانل ازطریق روش امپدانس الکتروشیمیائی ومنحنی های
پلاریزاسیون :

تعداد صفحات :۲۰

چکیده مقاله:

در مطالعه انجام شده هنگام استفاده از بازدارنده ) ) phs -4 شاخه کاتدی منحنی پلاریزاسیون تاحدی پلاریزه می شود و آزاد شدن H2 بر روی سطح استیل با مشکلات بیشتری صورت می گیرد
که مربوط به بلوکه شدن سطح الکترود می باشد که افزایش مقدار c تاحد ۰/۱۳۷۸v/decad را بدنبال دارد . همچنین مقدار ) OCP پتانسیل مدارباز ) بسمت مقادیر منفی تر جابجا می شود که
نشان دهنده اینست که این بازدارنده بطور غالب واکنش کاتدی را فرو می نشاند . روند کاهش دانسیته جریان خوردگی از ۵۷/۷۱ µAcm -2 تا ۱۲ µAcm -2 در غلضت ۸۰۰ ppm از بازدارنده
بیانگر تاثیر نسبتا ً خوب بازدارنده مورد مصرف دارد که راندمان بازداری %۷۹/۲ را نشان می دهد . ( phs -4( منحنی های امپدانس وجود دو ثابت زمانی را نشان می دهد که با توجه به توانائی مولکول درجذب سطحی بر روی سطح استیل ازطریق اتم N در گروه آمینو نیمدایره موجود درناحیه فرکانس بالا ) ) HF در منحنی Nyquist بیانگر تشکیل فیلم سطحی می باشد و نیمدایره ناحیه
فرکانس پائین ) ) LF به فرایندهای فاراده ای که بر روی سطح فلز از طریق منافذ و نقص های فیلم Boukamp رخ می دهد نسبت داده می شود . نتایج شبیه سازی مدار معادل با استفاده از نرم افزار بصورت Rs(C1[R1(C2R2)]) بدست آمد که مقادیر C1 و R1 مشخصات فیلم بوجود آمده را ارائه می دهد و بترتیب برابر ۷۱/۸ µf و ۲۰۳۵ می باشد