مقاله بررسی اثرپارامترهای رسوب دهی الکتریکی برمکانیزم جوانه زنی و رشدپوشش های منگنز ـ مس

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله بررسی اثرپارامترهای رسوب دهی الکتریکی برمکانیزم جوانه زنی و رشدپوشش های منگنز ـ مس دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بررسی اثرپارامترهای رسوب دهی الکتریکی برمکانیزم جوانه زنی و رشدپوشش های منگنز ـ مس  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی اثرپارامترهای رسوب دهی الکتریکی برمکانیزم جوانه زنی و رشدپوشش های منگنز ـ مس،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله بررسی اثرپارامترهای رسوب دهی الکتریکی برمکانیزم جوانه زنی و رشدپوشش های منگنز ـ مس :

تعداد صفحات:۸
چکیده:
الکترورسوب منگنز و الیاژهای آن جایگزین مناسبی برای پوشش های کادمیم درحفاظت خوردگی فولادها به کاربرده میشود دراین تحقیق مکانیزم جوانه زنی ورشدپوششهای الکترورسوبی Mn-Cu برزیرلایه فولادضدزنگ ۳۰۴ AISI موردبررسی قرارگرفت اثرات دانسیته جریان و زمان رسوب دهی برمورفولوژی سطح و ترکیب شیمیایی پوشش ها توسط میکروسکوپ روبشی SEM و انالیز انرژی پاشنده پرتوایکس EDX مطالعه گردید نتایج SEM ازمورفولوژی سطح نمونهها نشان داد که فرایند تشکیل لایه های الکترورسوبی منگنز ـ مس شامل جوانه زنی و رشدذرات ازحمام حاوی یونهای منگنز و مس است افزایش ضخامت پوشش ها ازالگوی رشدلایه ای پیروی می کند دردانسیته جریانهایپایین (< 550 mA/cm2 فیلم های غیرپیوسته و پولکی شکل برزیرلایه شکل میگیرد که با افزایش دانسیته جریان فیلم ها تکامل یافته و سطح را بطور کامل پوشش میدهند ضخامت پوشش ها با افزایش دانسیته جریان و زمان رسوب دهی افزایش می یابد رابطه بین ضخامت پوشش الکترورسوبی Mn-Cu بادانسیته جریان و زمان رسوب دهی با استفاده ازروش مینیمم مربعات خطا ازمعادلات=۰۴۰۳t3.141 =42836i0.124 پیروی می کند