مقاله استفاده از روش الیپسومتری برای اندازه گیری ضخامت لایه های ناشی از اکسیداسیون حرارتی در سطح آلیاژTi-4Al-2V

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله استفاده از روش الیپسومتری برای اندازه گیری ضخامت لایه های ناشی از اکسیداسیون حرارتی در سطح آلیاژTi-4Al-2V دارای ۱۲ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله استفاده از روش الیپسومتری برای اندازه گیری ضخامت لایه های ناشی از اکسیداسیون حرارتی در سطح آلیاژTi-4Al-2V  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله استفاده از روش الیپسومتری برای اندازه گیری ضخامت لایه های ناشی از اکسیداسیون حرارتی در سطح آلیاژTi-4Al-2V،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله استفاده از روش الیپسومتری برای اندازه گیری ضخامت لایه های ناشی از اکسیداسیون حرارتی در سطح آلیاژTi-4Al-2V :

تعداد صفحات:۱۲
چکیده:
آلیاژTi-4Al-2Vیکی از آلیاژهای نوین تیتانیم است که در دهه اخیر برای شرایط کاری دما و فشار زیاد معرفی شده است. با توجه به کابرد روزافزون این آلیاژ در صنایع دریایی، هسته ای و ساخت اجزای توربین های بخار؛ شناخت ماهیتاکسیداسیون آن به منظور کنترل نرخ اکسیداسیون بسیار حائز اه میت است. همواره تعیین ضخامت اکسید در آلیاژهای تیتانیم یکی از مشکلات عمده در زمینه بررسی نرخ اکسایش بوده است. اگرچه از تکنیک هایی همچون متالوگرافی،میکروسکوپ های الکترونی جاروبی و عبوری برای تعیین ضخامت این لایه ها استفاده می شود ولی مشکلاتی همچون حدتفکیک پایین، مخرب بودن و نمونه سازی همواره به عنوان محدودیت های عمده در بکارگیری این روشها مطرح بوده اند. روش الیپسومتری بر پایه اندازه گیری خواص نوری مواد استوار بوده و علاوه بر غیرمخرب بودن از حد تفکیک بالاییدرحد انگستروم برخوردار است. در این تحقیق قابلیت روش الیپسومتری برای تعیین ضخامت لایه های اکسیدی که برروی آلیاژTi-4Al-2V در حین اکسیداسیون حرارتی در دماهای ۴۵ ۶۰۰ و ۶۵۰ درجه سانتیگراد و بمدت ۱ الی ۷ ساعت تحت اتمسفر ایجاد می شوند مورد بررسی قرار گرفت. سپس با بکارگیری مدل اپتیکی محیط موثر، ضخامت لایه اکسیدی ایجاد شده در سطح آلیاژ تعیین گردید. نتایج نشان داد که ضخامت لایه های اکسیدی بسته به دما و زمان اکسیداسیون در محدوده ۴ الی ۶۸۵ نانومتر تغییر می کند.