مقاله بررسی نانوساختار لایه هاینازک نیترید مولیبدن بصورت تابعی از دمای بازپخت برروی زیرلایه ی سیلیکون

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله بررسی نانوساختار لایه هاینازک نیترید مولیبدن بصورت تابعی از دمای بازپخت برروی زیرلایه ی سیلیکون دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بررسی نانوساختار لایه هاینازک نیترید مولیبدن بصورت تابعی از دمای بازپخت برروی زیرلایه ی سیلیکون  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی نانوساختار لایه هاینازک نیترید مولیبدن بصورت تابعی از دمای بازپخت برروی زیرلایه ی سیلیکون،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله بررسی نانوساختار لایه هاینازک نیترید مولیبدن بصورت تابعی از دمای بازپخت برروی زیرلایه ی سیلیکون :

تعداد صفحات:۸

چکیده:

ابتدا لایه های نازک مولیبدن با استفاده از روش اسپاترینگ مغناطیسی DC برروی زیرلایه های سیلیکون و کوارتز به وسیله هدف مولیبدن با خلوص ۹۹/۹% تهیه گردید که ضخامت لایه تهیه شده درحدود ۱۹۰/۳ نانومتر اندازه گیری شد سپس لایه های مولیبدن را درداخل کوره بازپخت درمعرض گاز نیتروژن دردماهای ۴۰۰ و ۵۵۰ و ۷۰۰ و ۸۵۰ درجه سانتیگرادبا شیب حرارتی ۵C/min نیترید کردیم آنالیزهای F.P.P AFM <XRD برروی نمونه ها صورت گرفت از آنالیز Xrd برای شناسایی فازها و جهت ترجیحی لایه ها استفاده گردید مورفولوژِ سطح لایه های نیترید مولیبدن نیز با استفاده ازآنالیز AFM بررسی و مشخص گردید که با افزایش دمای بازپخت لایه ها زبری سطح نیز افزایش می یابد مقاومت سطحی لایه ها نیز به وسیله F.P.P اندازه گیری و مشاهده شد که با افزایش دمای بازپخت مقاومت سطحی و مقاومت ویژه ی لایه های نازک نیترید مولیبدن کاهش می یابد که نشان دهنده رسانایی الکتریکی بهتر لایه ها می باشد.