دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور مقاله اثر فوق اشباع ایجاد شده توسط زیر لایه بر نحوه ی جوانه زنی نانوسیم سیلیکونی در فرآیند VLS
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
مقاله اثر فوق اشباع ایجاد شده توسط زیر لایه بر نحوه ی جوانه زنی نانوسیم سیلیکونی در فرآیند VLS دارای ۱۳ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله اثر فوق اشباع ایجاد شده توسط زیر لایه بر نحوه ی جوانه زنی نانوسیم سیلیکونی در فرآیند VLS کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله اثر فوق اشباع ایجاد شده توسط زیر لایه بر نحوه ی جوانه زنی نانوسیم سیلیکونی در فرآیند VLS،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله اثر فوق اشباع ایجاد شده توسط زیر لایه بر نحوه ی جوانه زنی نانوسیم سیلیکونی در فرآیند VLS :
تعداد صفحات:۱۳
چکیده:
در این پژوهش به بررسی نقش ویفر سیلیکون به عنوان زیر لایه در نحوه جوانه زنی اولیه نانو سیم سیلیکون در فرایند بخار-مایع-جامد می پردازیم. اسا کار فرایند VLS جهت جوانه زنی و رشد نانو سیم بر پایه ی ایجاد فوق اشباع غلظتی در قطره کاتالیست می باشد. بر همین اساس، نحوه تشکیل آلیاژ Au-Si در جهت پی بردن به تاثیر زیر لایه در فوق اشباع، بررسی گردید و در طی بررسی ها از رابطه فوق اشباع گیبس-تامپسون برای تعیین حد پائینی قطر نانو سیم ها در هنگام جوانه زنی مورد استفاده قرار گرفت. همچنین، نتایج برگرفته از اختلاف نمودار آلیاژی Au-Si در مقیاس حجمی و نانو، نقش زیر لایه سیلیکون را بعنوان نیرو محرکه جوانه زنی نانو سیم Si تایید نمود. نتایج بدست آمده اینطور نشان می دهد که، زیر لایه سیلیکونی با ایجاد فوق اشباع اولیه در قطر کاتالیست موجب جوانه زنی و تعیین قطر نانو سیم می شود و پس از آن قطره با فوق اشباع بخار Si، موجب رشد لایه های نانو سیم می گردد. در نتیجه نانو سیم هایی با قطر ۹۰-۳۰ نانو متر و طول چندین میکرون تولید شد.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
