مقاله فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف دارای ۹ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف :

تعداد صفحات:۹

چکیده:

در این مقاله، یک مدل شاره ای دو بعدی برای شبیه سازی تخلیه الکتریکی با فرکانس رادیویی (rf ) در یک راکتور PECVD به کار گرفته شده است. این نوع مدل سازی قادر است فرایند شکل گیری ذرات با ابعاد نانو را در محیط تخلیه الکتریکی راکتور تا رسوب سیلیکون آمورف بر روی یک زیر لایه و تشکیل لایه های نازک را توصیف نماید. در این کار، همچنین مهم ترین فرآیندهای معرفی شده شیمیایی در محیط پلاسما در نظر گرفته شده است. یعنی گونه های مختلف باردار و رادیکال ها، واکنش های گوناگون الکترون با ذرات خنثی و سایر واکنش های شیمیایی مد نظر است. در طول تخلیه الکتریکی رادیکال هایی تولید می شود که ابعاد نانو دارند. این رادیکال ها همان نانو ذرات هستند که روی زیرلایه ها رسوب می کنند و لایه های نازک تولید می شود. در واقع در این مقاله ما، واکنش های شیمیایی انجام شده در راکتور را بررسی کرده و معادلات حاکم بر ذرات و محیط راکتور را جمع آوری کرده ایم. این معادلات شامل معادلاتعادل چگالی و شار برای گونه های مختلف، معادله ی پواسون برای پتانسیل و معادله ی انرژی الکترون می باشد.