مقاله مطالعه اثر دما روی خواص اپتوالکتریکی و ساختاری لایه های نازک اکسید قلع به روش اقتصادی نهشت بخار شیمیایی

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله مطالعه اثر دما روی خواص اپتوالکتریکی و ساختاری لایه های نازک اکسید قلع به روش اقتصادی نهشت بخار شیمیایی دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله مطالعه اثر دما روی خواص اپتوالکتریکی و ساختاری لایه های نازک اکسید قلع به روش اقتصادی نهشت بخار شیمیایی  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله مطالعه اثر دما روی خواص اپتوالکتریکی و ساختاری لایه های نازک اکسید قلع به روش اقتصادی نهشت بخار شیمیایی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله مطالعه اثر دما روی خواص اپتوالکتریکی و ساختاری لایه های نازک اکسید قلع به روش اقتصادی نهشت بخار شیمیایی :

تعداد صفحات:۸

چکیده:

ما از روش جدید و بهینه شده نهشت بخار شیمیایی برای ساخت لایه های اکسید قلع استفاده نمودیم. این روش بسیار ساده و کم هزینه می باشد و فیلم هایی با خواص خوب الکتریکی جهت کاربردهای سنسوری تولید می کند. اثر دمای زیرلایه روی مقاونت سطحی،مقاومت،موبیلیتی و غلظت حامل و شفافیت فیلمها مطالعه شد. بهترین مقاومت سطحی در دمای زیرلایه ۵۰۰C حدود ۲۷/ بدست آمد. پراش پرتو X نشان داد که ساختار فیلمهای تولید شده پلی کریستال با اندازه دانه بین ۳۰۰-۱۰۰ A است. جهت ترجیحی برای فیلمهای لایه نشانی شده در دمای ۵۰۰C، (۲۱۱) است. تصاویر FESEM بدست آمده نشان داد که دمای زیرلایه فاکتور مهمی در افزایش اندازه دانه و بهبود خواص الکتریکی است.