مقاله مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111 دارای ۱۲ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111 :

تعداد صفحات:۱۲

چکیده:

لایه نشانی الکتروشیمیایی نسبت به روشهای لایه نشانی فیزیکی مزایایی از جمله عدم نیاز به سیستم خلا، دمای کاری پایین فرایند ( درحدود دمای محیط) ارزان قیمت بودن فرایند، و تولید فصل مشترک های تیز و اپیتاکسی برای ساخت لایه های نازک دارد در این راستا استفاده از روشهای مختلف الکتروشیمیایی از جمله ولتامتری سیکلی، کرونوآمپرمتری (منحنی مشخصه جریان – زمان) و کرونوپتانسیومتری (منحنی مشخصه پتانسیل – زمان ) برای مطالعه متغیرهای مختلف ترمودینامیکی و سینتیکی لایه نشانی مورد توجه قرا ردارد. با توجه به اهمیت لایه های نازک فرومغناطیسی، دراین تحقیق مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل برروی زیرلایه Si +n(111) از حمام سولفاتی ساده با استفاده از تکنیکهای الکتروشیمیایی ولتامتری سیکلی و کرونوآمپرمتری و مقایسه آن با تئوری شریفکز – هیلز مورد مطالعه قرار گرفته است نتایج آزمایش ولتامتری سیکلی در سرعتهای جاروب مختلف ازmV/s20 تا mV/s200 در غلظتهای متفاوت سولفات نیکل، جریان کاتدی از پتانسیل V0.7- شروع شده و پتانسیل احیای نیکل را در سرعت های جاروب مختلف محدوده و V1.3- تا V1.5- نشان میدهد بااستفاده از تکنیک کرونوآمپرمتری و رسم منحنی های بدون بعد مجذور نسبت جریان نشست به جریان پیک براساس تئوری شریفکز – هیلز، نحوه جوانه زنی به صورت آنی به اثبات می رسد. همچنین نحوه تغییرات مقدار جریان نشست نسبت به t1/2 خطی و نسبت به t3/2 غیرخطی است که تایید کننده مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل به صورت آنی می باشد.