دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور مقاله ساخت لایه های نازک مس با استفاده از روش های الکتروانباشت، الکترولس و تبخیر در خلاء بر زیرلایه سیلیکون و مقایسه ساختار آنها
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
مقاله ساخت لایه های نازک مس با استفاده از روش های الکتروانباشت، الکترولس و تبخیر در خلاء بر زیرلایه سیلیکون و مقایسه ساختار آنها دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله ساخت لایه های نازک مس با استفاده از روش های الکتروانباشت، الکترولس و تبخیر در خلاء بر زیرلایه سیلیکون و مقایسه ساختار آنها کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله ساخت لایه های نازک مس با استفاده از روش های الکتروانباشت، الکترولس و تبخیر در خلاء بر زیرلایه سیلیکون و مقایسه ساختار آنها،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله ساخت لایه های نازک مس با استفاده از روش های الکتروانباشت، الکترولس و تبخیر در خلاء بر زیرلایه سیلیکون و مقایسه ساختار آنها :
تعداد صفحات:۵
چکیده:
در این تحقیق لایه های نازک مس بر زیرلایه نیمرسانای سیلیکون به سه روش الکتروانباشت، الکترولس و تبخیر در خلاء رشد داده شدند و ساختار آن ها با استفاده از دستگاه طیف پراش اشعه X مورد مطالعه و بررسی قرار گرفتند. سپس با استفاده از میکروسکوپ SEM ریخت شناسی وترکیب شیمیایی نمونه ها مطالعه و با یکدیگر مقایسه شد. نتایج نشان داد که لایه تولید شده به روش الکتروانباشت ساختاری دانه ای با اندازه متوسط کمتر از ۲۰۰nm ، به روش تبخیر در خلاء لایه بسیار همگن و یکنواخت و به روش الکترولس ساختار لایه با توجه به دمای رشد متفاوت است و هموارترین نمونه در دمای ۴۷درجه سانتیگراد ایجاد گردیده است.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
