مقاله بررسی تاثیر لایه روکش (cap) بر مقاومت سورس ترانزیستور HFET ساخته شده با AlGaN-GaN
![](https://ltbd2017.ir/wp-content/themes/royalfile/images/sp-loading.gif)
در حال بارگذاری
۱۶۶۵۰۹
اشتراک گذاری در شبکه های اجتماعی، به دوستانتان معرفی کنید.
راهنمای خرید:
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.