مقاله مطالعه تاثیر ضخامت لایه ZnO به عنوان لایه میانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک ITO

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله مطالعه تاثیر ضخامت لایه ZnO به عنوان لایه میانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک ITO دارای ۷ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله مطالعه تاثیر ضخامت لایه ZnO به عنوان لایه میانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک ITO  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله مطالعه تاثیر ضخامت لایه ZnO به عنوان لایه میانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک ITO،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله مطالعه تاثیر ضخامت لایه ZnO به عنوان لایه میانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک ITO :

تعداد صفحات:۷

چکیده:

هدف این مقاله، بهبود خواص فیزیکی لایه ای نازک اکسید ایندیوم با آلایش قلع (ITO) می باشد. از اینرو لایه های ITO بر روی زیرلایه های شیشه نازک و لایه اکسید روی به عنوان لایه بافر، به روش کندوپاش RF لایه نشانی شده اند. پس از لایه نشانی در محیط گاز آرگون، نمونه های در محیط خلاء در دمای ۴۰۰ درجه سانتیگراد گرماهی شده اند. خواص الکتریکی، اپتیکی، ساختار کریستالی و ساختار سطحی این لایه ها با کمک آنالیزهای اندازه گیری مقاومت چهار پروبی، طیف UV/VIS/IR و XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج نشان می دهند که با لایه نشانی لایه های ITP بر روی اکسید روی، لایه به دست آمده تنها در جهات ارجح کریستالی (۲۲۲) و (۴۰۰) رشد می یابند. این در حالیست که لایه مشابه بر روی زیرلایه شیشه ای از نوع پلی کریستالی بوده و شدت قله های کریستالی کمتر می باشند. از میان لایه های iTO بر روی زیرلایه شیشه و لایه های اکسید روی با ضخامت ۵۰ ، ۱۰۰ و ۱۵۰ nm و با شرایط مشابه لایه نشانی شدند، لایه ای بهینه است که بر روی لایه بافر ۱۰۰nm لایه نشانی شده و دارای مقاومت ویژه الکتریکی ۰/۹ ضربدر ۱۰ به توان -۴ cm و میانگین درصد عبور نوری ۸۰% در ناحیه قابل دید می باشد.