مقاله معرفی روش نوین ساخت نانوسیستم های سیلیکانی با تکنیک لایه برداری عمودی در حضور پلاسمای هیدروژن

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله معرفی روش نوین ساخت نانوسیستم های سیلیکانی با تکنیک لایه برداری عمودی در حضور پلاسمای هیدروژن دارای ۶ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله معرفی روش نوین ساخت نانوسیستم های سیلیکانی با تکنیک لایه برداری عمودی در حضور پلاسمای هیدروژن  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله معرفی روش نوین ساخت نانوسیستم های سیلیکانی با تکنیک لایه برداری عمودی در حضور پلاسمای هیدروژن،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله معرفی روش نوین ساخت نانوسیستم های سیلیکانی با تکنیک لایه برداری عمودی در حضور پلاسمای هیدروژن :

تعداد صفحات:۶

چکیده:

روش نوینی برای ساخت نانوساختارهای سیلیکانی بر روی زیر لایه سیلیکان ارائه شده است. این تکنیک بر مبنای لایه برداری عمودی از سیلیکان در حضور پلاسمای هیدروژن است که جزو روش های "بالا به پاییین" می باشد. پس از لایه نشانی نیکل به عنوان نقاب، آن را با استفاده از روش PECVD، توسط هیدروژن بمباران می کنیم تا جزیره های نانومتری نیکل تشکیل شود. سپس زیرلایه ی سیلیکان، با تکرار متوالی دو مرحله ی اکسید کردن و لایه برداری در حضور گاز SF6، به صورت عمودی خرده شده و نانوسیستم های سیلیکانی ساخته می شوند. ما توانستیم با استفاده از این روش، نانوسیستم های سیلیکانی با قطر بین ۱۰۰ الی ۶۰۰ نانومتر و طول بیش از ۱۵ میکرومتر را بسازیم.