دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور مقاله الکترولس فیلم های نازک مس بر زیر لایه سیلیکون وبررسی اثر دمابررشد آنها
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
مقاله الکترولس فیلم های نازک مس بر زیر لایه سیلیکون وبررسی اثر دمابررشد آنها دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله الکترولس فیلم های نازک مس بر زیر لایه سیلیکون وبررسی اثر دمابررشد آنها کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله الکترولس فیلم های نازک مس بر زیر لایه سیلیکون وبررسی اثر دمابررشد آنها،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله الکترولس فیلم های نازک مس بر زیر لایه سیلیکون وبررسی اثر دمابررشد آنها :
تعداد صفحات:۵
چکیده:
در این تحقیق فیلم های نازک مس ازنمک CuSO4 .5H2O در حضور فرمآلدهید به عنوان واسطه کاهش برسطح زیر لایه نیمرسانای سیلیکون به روش الکترولس تهیه شدند وساختارآن ها با استفاده از دستگاه XRD مورد بررسی قرار گرفت. با استفاده از میکروسکوپ SEM ریخت شناسی وترکیب شیمیایی نمونه ها مطالعه شد. سپس اثردما بر فرآیند رشد مورد مطالعه قرار گرفت و دمای بهینه جهت داشتن لایه ای همگن ویکنواخت بین ۵۷-۵۴ درجه سانتیگراد تعیین گردید.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
