دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور مقاله بررسی اثر کاشت ناخالصی آرسنیک بر روی نیمه هادی سیلیسیم بعد ازاکسیداسیون گرمایی
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
مقاله بررسی اثر کاشت ناخالصی آرسنیک بر روی نیمه هادی سیلیسیم بعد ازاکسیداسیون گرمایی دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله بررسی اثر کاشت ناخالصی آرسنیک بر روی نیمه هادی سیلیسیم بعد ازاکسیداسیون گرمایی کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی اثر کاشت ناخالصی آرسنیک بر روی نیمه هادی سیلیسیم بعد ازاکسیداسیون گرمایی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله بررسی اثر کاشت ناخالصی آرسنیک بر روی نیمه هادی سیلیسیم بعد ازاکسیداسیون گرمایی :
تعداد صفحات:۵
چکیده:
در این مقاله با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM ) ، تأثیر ناخالصی آرسنیک(As) با دز های مختلف که با روش کشت یونی در ویفرهای سیلیسیم تک بلور (۱۰۰) ، کاشته شده است، بعد از اکسیداسیون گرمایی سیلیسیم در تغییرات مورفولوژی سطح فصل مشترک اکسید – نیمه رسانا مطالعه شده است . همچنین تأثیر بازپخت حرارتی بعد از مرحله اکسیداسیون در خواص الکتریکی و منحنی ولتاژ – جریان (I-V) مورد مطالعه قرار گرفته است . علاوه بر این ایجاد لایه بلوری و غنی ازAsدر فصل مشترک اکسید – نیمه رسانا با استفاده از تکنیکRBS-Channelingبررسی شده است
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
