دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور مقاله شبیه سازی فرآیند لایه نشانی سیلیکن آمورف در راکتور PECVD و بررسی اثر فشار محفظه روی خواص لایه نشانده شده
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
مقاله شبیه سازی فرآیند لایه نشانی سیلیکن آمورف در راکتور PECVD و بررسی اثر فشار محفظه روی خواص لایه نشانده شده دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله شبیه سازی فرآیند لایه نشانی سیلیکن آمورف در راکتور PECVD و بررسی اثر فشار محفظه روی خواص لایه نشانده شده کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله شبیه سازی فرآیند لایه نشانی سیلیکن آمورف در راکتور PECVD و بررسی اثر فشار محفظه روی خواص لایه نشانده شده،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله شبیه سازی فرآیند لایه نشانی سیلیکن آمورف در راکتور PECVD و بررسی اثر فشار محفظه روی خواص لایه نشانده شده :
تعداد صفحات:۵
چکیده:
در این نوشتار نتایج شبیه سازی فرآیند لایه نشانی سیلیکن آمورف به روش PECVD ارائه شده است و تاثیر فشار محفظه بر روی خواص لایه نشانده شده مورد بررسی قرار گرفته است. به منظور ارزیابی کیفیت و یکنواختی لایه نشانده شده دو معیار کیفی تعریف شده است. همچنین نرخ لایه نشانی سیلیکن آمورف در فشارهای کمتر از یک تور (شرایط متداول لایه نشانی) بر حسب موقعیت مکانی بر روی بستر و الکترود توان نشان داده شده است.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
