دانش رسان |
مرکز علم و دانش کشور مقاله تمام نگاری حجمی در بلور بیسموت سیلیکون اکساید (Bi2SiO20) در چیدمان اختلاط چهار – موج تبهگن
در حال بارگذاری
توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد
مقاله تمام نگاری حجمی در بلور بیسموت سیلیکون اکساید (Bi2SiO20) در چیدمان اختلاط چهار – موج تبهگن دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله تمام نگاری حجمی در بلور بیسموت سیلیکون اکساید (Bi2SiO20) در چیدمان اختلاط چهار – موج تبهگن کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله تمام نگاری حجمی در بلور بیسموت سیلیکون اکساید (Bi2SiO20) در چیدمان اختلاط چهار – موج تبهگن،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله تمام نگاری حجمی در بلور بیسموت سیلیکون اکساید (Bi2SiO20) در چیدمان اختلاط چهار – موج تبهگن :
تعداد صفحات:۵
چکیده:
با استفاد ازچیدمان آزمایشگاهی اختلاط چهار – موج تبهگن شدت پرتوی مزدوج – فاز اپتیکی را در بلور بیسموت سیلیکون اکساید و استفاده از لیزر Nd-YAG با طول موج ۵۳۲nm و توان ۵۰۰Mw با بیشینه بازتاب ۰۳۵% اندازه گیری می کنیم. در این بلور بردار توری و چگالی تله به ترتیب m1- 10 به توان ۶ ضربدر ۱۰m-1 به توان ۲۳ ضربدر ۱ محاسبه می شود.
- در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.
