مقاله بررسی تاثیر عوامل مختلف بر تشکیل رسوبات کلکریوس توسط سیستم جریان پالسی

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله بررسی تاثیر عوامل مختلف بر تشکیل رسوبات کلکریوس توسط سیستم جریان پالسی دارای ۱۱ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بررسی تاثیر عوامل مختلف بر تشکیل رسوبات کلکریوس توسط سیستم جریان پالسی  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی تاثیر عوامل مختلف بر تشکیل رسوبات کلکریوس توسط سیستم جریان پالسی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله بررسی تاثیر عوامل مختلف بر تشکیل رسوبات کلکریوس توسط سیستم جریان پالسی :

تعداد صفحات:۱۱

چکیده:

با اعمال سیستم حفاظت کاتدی روی سازه های فراساحلی در آب دریا و در نتیجه کاهش میزان pH بر سطح سازه، شرایط لازم برا ی تشکیل پوشش های معدنی مانند Mg(OH)2 و Mg(OH)3 مهیا می شو د. سینتیک تشکیل این رسوبات عموماً بستگی به عواملی نظیر غلظت+ Mg2+ ، Ca2 و -PO43- ، SO42، دما ، پتانسیل اعمالی و فشار هیدرواستاتیک و سرعت جریان الکترولیت و ; دارد. در این تحقیق با استفاده از جریان پالسی رسوب کلکریوس بر سطح فلز نشانده می شود . نتایج تغییر غلظت عوامل موجود در الکترولیت با نتایج حاصل از حفاظت کاتدی معمول مقایسه شده است . از تکنیک های کرونوآمپرومتری برای نشان دادن تشکیل رسوبات کلکریوس پس از اعمال جریان پالسی بهره برده شده است . در آب دریای غنی از +Mg2 رسوب آراگونیت ناممکن است در حالیکه در این روش با استفاده از یک میدان الکترومغناطیسی قوی در یک بازه زمانی کوتاه شاهد تشکیل Mg(OH)2 هستیم و می توان از وجود همزمان آراگونیت و بوراسیت سود برد . به عبارت دیگر جوانه زنی بهتر دانه های بوراسیت شرایط رشد بهتری را برای دانه های آراگونیت مهیا می کند، زیرا میدان ایجاد شده باعث خروج یون های -SO42از اطراف سطح می شود. در این مقاله علاوه بر بررسی اجمالی این پوشش ها ،تغییرات مقدار جریِان مورد نیاز این پوشش ها و ضخامت آنها به عنوان فاکتور تعیین کننده مورد بررسی قرار گرفته است . ضخامت پوشش ها توسط عکسبرداریSEM و میزان جریان مورد نیاز برای تشکیل آنها از طریق تحلیل نتایج کورنوآمپرومتری بدست آمده است. تاثیر چهار عامل ولتاژ اعمالی ، غلظت + Mg2 و +Ca2 در الکترولیت و زمان عملیات بر فرآیند مورد توجه قرار گرفته است . با استف اده از سیستم آنالیز Taguchi ترتیب تاثیر این عوامل بر فاکتورهای اصلی مورد بحث قرار گرفته است . مشخص شده است که موثرترین عامل بر ضخامت پوشش، مدت زمان اعمال حفاظت کاتدی و بحرانی ترین عامل بر مقدار جریان مورد نیاز برای حفاظت غلظت + Ca2 در الکترولیت است.