مقاله طراحی و ساخت پوشش های کم-گسیل (Low-E) روی شیشه با انباشت لایه های نازک ITO به روش کندوپاش مگنترون DC

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

  مقاله طراحی و ساخت پوشش های کم-گسیل (Low-E) روی شیشه با انباشت لایه های نازک ITO به روش کندوپاش مگنترون DC دارای ۸ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله طراحی و ساخت پوشش های کم-گسیل (Low-E) روی شیشه با انباشت لایه های نازک ITO به روش کندوپاش مگنترون DC  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله طراحی و ساخت پوشش های کم-گسیل (Low-E) روی شیشه با انباشت لایه های نازک ITO به روش کندوپاش مگنترون DC،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن مقاله طراحی و ساخت پوشش های کم-گسیل (Low-E) روی شیشه با انباشت لایه های نازک ITO به روش کندوپاش مگنترون DC :

تعداد صفحات:۸

چکیده:

لایه های نازک اکسید-ایندیم-قلع(ITO) با روش کندوپاش فعال مگنترون – DC در یک سیستم کندوپاش عمودی تهیه شده است . اثر دمای بستره و سرعت حرکت شیشه در مقابل هدف سرامیکی بر
مقاومت الکتریکی سطحی و همچنین اثر توان کندوپاش بر مقاومت الکتریکی سطحی، میزان تر اگسیل و بازتاب از سطح لایه نازک اندازه گیری شده است . پس از بدست آوردن شرایط بهینه مقاومت الکتریکیسطحی برابر /۷ ۱۲ ، تراگسیل مرئی ۰۵/۸۷% و بازتاب در محدوده فروسرخ (طول موج m 50-2/5)بیش از ۸۲/۳۳% بدست آمد که مقادیر مناسب برای پوشش های کم – گسیل می باشند . با استفاده از داده های اپتیکی طول موج پلاسما محاسبه شده است و به کمک تئوری های موجود برای الکترون های آزاد تراکم حامل های بار و همچنین تابع شایستگی برای نمونه های مختلف حساب شده است . نتایج این محاسبات کاملا با نتایج گزارش شده مطابقت دارد .