مقاله بهینه‌سازی پارامترهای مؤثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن


در حال بارگذاری
23 اکتبر 2022
فایل ورد و پاورپوینت
2120
3 بازدید
۷۹,۷۰۰ تومان
خرید

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 مقاله بهینه‌سازی پارامترهای مؤثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن دارای ۱۷ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بهینه‌سازی پارامترهای مؤثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بهینه‌سازی پارامترهای مؤثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد


بخشی از متن مقاله بهینه‌سازی پارامترهای مؤثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن :

تعداد صفحات :۱۷

با توجه به مشکل‌ساز بودن دفع مستقیم پساب دارای آنتی‌بیوتیک‌ها به محیط زیست و بروز مشکل‌ های جدی در محیط همانند مقاومت ژنتیکی، تصفیه پساب این صنایع از اهمیت ویژه ‌ای برخوردار است. در این پژوهش افزون بر بررسی تصفیه‌پذیری یکی از پرمصرف‌ترین آنتی‌بیوتیک‌ها، اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره ‌های آهن، قابلیت اکسایش و فتوکاتالیستی لایه آهن اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره‌های آهن نیز بررسی شد. ابتدا پارامترهای مؤثر در حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری بررسی و بهینه شدند که طبق نتیجه‌ های به دست آمده در شرایط بهینه، از نانو ذره‌ های آهن با غلظت mg/L 1000 برای حذف mg/L 155 اکسی‌تتراسایکلین در pH برابر ۳، تابش UV با توان W 200 در مدت زمان ۵/۶ ساعت استفاده شد که مقدارهای حذف در طول موج‌های ۲۹۰ و ۳۴۸ نانومتر، TOC و COD به ترتیب ۸۷، ۹۵، ۸۵ و ۸۹ درصد به دست آمدند. پس از گذشت ۱۴ ساعت، میزان همه این پارامترها بیانگر تجزیه کامل اکسی‌تتراسایکلین بود. همچنین طبقنتیجه آنالیز XRD ، FeO و FeOOH ، لایه اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره‌ ها شناسایی شده و اثرهای مثبت فتوکاتالیستی آن در فرایند حذف توسط آزمایش‌های شاهد مورد بررسی قرار گرفت. بررسی اثر جداگانه هوادهی، پرتودهی فرابنفش و اکسایش توسط نانو ذره‌ه ای آهن در تاریکی و مقایسه نتیجه‌ ها با شرایط تلفیقی (نانو ذره‌های آهن در مجاورت تابش فرابنفش) نشان دهنده‌ی برتری فرایند تلفیقی در فرایند حذف بود.

  راهنمای خرید:
  • در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.