مقاله بررسی حذف فنل از محلول آبی با استفاده از فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته


در حال بارگذاری
23 اکتبر 2022
فایل ورد و پاورپوینت
2120
6 بازدید
۷۹,۷۰۰ تومان
خرید

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 مقاله بررسی حذف فنل از محلول آبی با استفاده از فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته دارای ۱۰ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله بررسی حذف فنل از محلول آبی با استفاده از فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی حذف فنل از محلول آبی با استفاده از فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد


بخشی از متن مقاله بررسی حذف فنل از محلول آبی با استفاده از فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته :

تعداد صفحات :۱۰

اکثر ترکیبات آلی نسبت به تصفیه‌های شیمیایی و بیولوژیکی متداول مقاوم هستند. بنابراین روشهای دیگری به‌عنوان جایگزین فرایندهای فیزیکی شیمیایی و بیولوژیکی کلاسیک مورد مطالعه و تحقیق قرار گرفته‌اند. در این تحقیق، فناوری‌های اکسیداسیون فتوشیمیایی پیشرفته شاملUV/H2O2/Fe/(III)، UV/H2O2/Fe(II)، UV/H2O2 و UV برای حذف فنل در محلول آبی در مقیاس آزمایشگاهی مورد بررسی و آزمایش قرار گرفت. از یک لامپ فرابنفش جیوه‌ای فشار متوسط ۳۰۰ وات به‌عنوان منبع تابش و از پراکسید هیدروژن ۳۰ درصد به‌عنوان ماده اکسید کننده و از فنل با غلظت اولیه ۰/۵میلی مول در لیتر به‌دلیل کاربرد و مصرف زیاد به‌عنوان مدل استفاده گردید. برای بررسی عوامل مؤثر مانند pH، غلظت پراکسیدهیدروژن، غلظت و نوع نمک آهن و زمان تابش نور UV، آزمایش‌ها بر اساس روشهای استاندارد، آنالیز گردیدند. نتایج آزمایش‌ها نشان داد فرایند فتوفنتون مؤثرترین فرایند تصفیه تحت شرایط اسیدی بوده و دارای سرعت بیشتر تصفیه فنل در زمان تابش خیلی کم است. سرعت اکسیداسیون در این فرایند ۴ تا ۵ بار بیشتر از فرآیند UV/H2O2 می‌باشد. شرایط بهینه برای فرایند فتوفنتون، مقدار pH برابر ۳، نسبت مولی H2O2/Phenol برابر ۱۱/۶۱ و نسبت مو لی Iron/H2O2 برای سیستم‌های UV/H2O2/Fe(II) و UV/H2O2/Fe/(III) به‌ترتیب۰/۰۸۳ و ۰/۰۶۷ به‌دست آمد.

  راهنمای خرید:
  • در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.