جداسازی و شناسایی مولکولی یک سویه جدید از Microbacterium resistens، قادر به تحمل شرایط سخت


در حال بارگذاری
23 اکتبر 2022
فایل ورد و پاورپوینت
2120
3 بازدید
۹۷,۷۰۰ تومان
خرید

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 جداسازی و شناسایی مولکولی یک سویه جدید از Microbacterium resistens، قادر به تحمل شرایط سخت دارای ۲۱ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد جداسازی و شناسایی مولکولی یک سویه جدید از Microbacterium resistens، قادر به تحمل شرایط سخت  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی جداسازی و شناسایی مولکولی یک سویه جدید از Microbacterium resistens، قادر به تحمل شرایط سخت،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد


بخشی از متن جداسازی و شناسایی مولکولی یک سویه جدید از Microbacterium resistens، قادر به تحمل شرایط سخت :

نام کنفرانس، همایش یا نشریه : زیست شناسی میکروارگانیسم ها

تعداد صفحات :۲۱

مقدمه: استفاده از باکتری های مقاوم به اشعه، فرابنفش و دیگر شرایط سخت، برای پاک سازی زیستی و بازیابی فلزات موجود در زباله های محیطی و صنعتی به خاطر توانایی بقا و کاتالیز عملکردی مطلوب تحت شرایط استرس بالای اشعه بسیار حائز اهمیت است.مواد و روش ها: پس از غربال گری اولیه و ثانویه به وسیله تابش اشعه با لامپ UV، یک جدایه به دست آمد که بر اساس ویژگی های ریخت شناسی و بیوشیمیایی، تعیین توالی ژن ۱۶S rRNA و تحلیل فیلوژنتیک، شناسایی شد. به منظور مطالعه ویژگی های مقاومت جدایه فوق، سویه در معرض برخی شرایط سخت از قبیل اشعه فرابنفش (۲۵ ژول)، خشکی (۲۸ روز)، هیدروژن پراکسید (۱ تا ۵ درصد)، میتومایسین C (1 تا ۸ میکروگرم)، غلظت های مختلف نمک (۵ تا ۲۵ درصد) و مقادیر مختلف اسیدیته (۱ تا ۱۱) گذاشته و رشد یا بقای باکتری در محیط TGY به وسیله اسپکترومتری یا فلوسیتومتری ارزیابی شد.نتایج: جدایه MG6 باکتری میله ای گرم مثبت مقاوم به اشعه فرابنفش بود که توالی ۱۶S rRNA آن ۹۹.۷ درصد شباهت با Microbacterium resistens نشان داد. این شباهت با تحلیل فیلوژنتیک تائید شد. رشد بهینه سویه در اسیدیته ۵ و غلظت ۵ درصد کلریدسدیم دیده شد. همچنین به غلظت ۱ تا ۴ درصد هیدروژن پراکسید و ۲ میکروگرم میتومایسین C مقاومت نشان داد. تحلیل میزان بقا نشان داد که این سویه در مقایسه با Deinococcus radiodurans R1 مقاومت بالایی در برابر اشعه فرابنفش، ولی در برابر خشکی مقاومت متوسطی دارد.بحث و نتیجه گیری: در این تحقیق، سویه جدیدی از M. resistens جداسازی شد که مقاوم به اشعه UV بود و تحمل برخی شرایط سخت مثل اسیدیته، عوامل اکسیدان و موتاژن، شوری و خشکی را نیز نشان داد. مقاومت سویه MG6 به اشعه UV قابل مقایسه با سویه مقاوم به اشعه D. radiodurans R1 بود. تحقیق حاضر اولین گزارش درباره مقاومت به شرایط سخت سویه جدید M. resistens در ایران می باشد.

کلید واژه: اشعه فرابنفش، M. resistens، تکنیک فلوسایتومتری، شرایط سخت

  راهنمای خرید:
  • در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.